[13p-A23-1~11] 6.1 強誘電体薄膜

△ [13p-A23-2] BiFeO₃薄膜の正圧電応答におけるドメイン壁の寄与

〇苅谷 健人¹、吉村 武¹、藤村 紀文¹ (1.阪府大工院)

キーワード：圧電、強誘電体、BiFeO3

本研究では新規に開発した走査型プローブ顕微鏡を基盤とした微視的領域における正圧電応答の観察手法を用いてBiFeO₃薄膜のドメイン壁が正圧電応答に及ぼす寄与を定量的に解析した。109ºドメイン壁を有するドメインと比較して71ºドメイン壁を有するドメインでは140%程大きな圧電応答が観察され、71ºドメイン壁が正圧電応答に大きく寄与することが明らかになり、71ºドメイン壁密度の向上が大きな正圧電応答の発現に重要であることが示唆された。