[13p-D62-1~14] 6.4 薄膜新材料

[13p-D62-13] EDTA金属錯体溶液を用いたGd添加CeO₂膜の乾燥制御剤の影響

〇菊田 剛史¹、中村 淳^2,1、小松 啓志¹、齋藤 秀俊¹ (1.長岡技科大、2.中部キレスト)

キーワード：ガドリニウムドープ酸化セリウム、エチレンジアミン四酢酸、金属酸化物薄膜

エチレンジアミン四酢酸(EDTA)金属錯体溶液を出発原料として、塗布法と大気焼成を組み合わせた薄膜合成法では、膜に数十nmの微細亀裂が発生していた。緻密膜の作製のためには亀裂発生を抑える必要がある。そこで、本報告では乾燥制御剤を添加したEDTA金属錯体水溶液を用いてGd添加CeO₂膜を作製し、膜形態への影響を調査した。