[13p-P9-1~38] 12.5 有機太陽電池

[13p-P9-38] CVD法によるバリア膜の形成とフレキシブル有機デバイスへの応用

〇立花 勇太郎¹、横田 知之¹、雪田 和歌子¹、小泉 真理¹、染谷 隆夫¹ (1.東大工)

キーワード：封止膜

今回、我々は有機と無機の多層膜を用いたフレキシブルハイバリア膜の開発を行った。フレキシブルハイバリア膜は、有機膜としてパリレン層を、無機膜としてSiON膜をCVD装置を用いて交互に成膜することで、多層構造を形成した。作製したフレキシブルハイバリア膜は5層構造であり１層あたりの膜厚が高純度パリレン：1μm（合計2μm）、SiON：200nm(合計：600nm)となり、合計3μm未満と薄膜である。そのため、高いフレキシブル性を示し、3層デバイスをアコーディオン構造にしてもクラックは確認出来なかった。またバリア膜水分透過率及びを酸素透過率を測定したところ、装置測定下限と非常に高いハイバリア性を確認できた。また当日は、これらのフレキシブルハイバリア膜を有機発光ダイオードに実装した結果を報告する予定である。