[14p-A32-1~16] 6.6 プローブ顕微鏡

[14p-A32-15] 原子間力顕微鏡によるIn/Si(111)-8×2表面の測定

〇(DC)岩田 孝太¹、山崎 詩郎²、塩足 亮隼³、杉本 宜昭^1,3 (1.阪大院工、2.東工大理、3.東大新領域)

キーワード：原子間力顕微鏡、1次元金属、相転移

In/Si(111)表面は120K程度で金属‐絶縁体転移を起こす系であり、その構造や電子状態について様々な手法を用いて研究されてきた。本研究では、これまで得られていなかった原子位置に関するミクロスコピックな情報を得るために、原子位置に敏感な原子間力顕微鏡（AFM）を用いて、相転移前後の表面を測定した。その結果、相転移の前後で高分解能AFM像を得ることができ、相転移後には特徴的な周期性の変調を観察することができた。