[15a-A31-1~13] 6.3 Oxide electronics

[15a-A31-2] Niobium Oxide film deposited by reactive sputtering with plasma emission feedback system

〇Mai Saito¹, Junjun Jia¹, Shinichi Nakamura¹, Gloess Daniel², Yuzo Shigesato¹ (1.Aoyama-Gakuin Univ., 2.FEP)

Keywords:dielectric function, reactive sputtering, niobium oxide

ニオブ酸化物は様々なストイキオメトリーのものが存在し、LiNbO₃のような強誘電体もあればNbOのように低原子価状態で超電導を示す化合物もあり、最近では光学ガラスの屈折率調整など光学系薄膜としてNb₂O₅が用いられている。本研究ではプラズマ発光制御法を用いた反応性スパッタ法により、酸素組成比が精密に制御された様々な化学量論組成の酸化ニオブ薄膜を作製し、400~600℃で焼成した薄膜の構造と諸特性を解析した。