[15a-A31-1~13] 6.3 Oxide electronics

[15a-A31-1] Fabrication and characterization of ZnO thin film on different substrates by RF sputtering

〇Kentaro Imoto¹, Shengwen Hou¹, Chaoyang Li^1,2 (1.Kochi Univ. Tech, 2.Nanotechnology Center)

Keywords:ZnO thin film, Substrate dependency, RF sputtering

紫外線領域において吸収特性をもち、可視光領域においては高い透過率有する。また資源として豊富であるため安価な材料としても注目されており、色々なデバイスなどへの応用が可能であると考えられる。本研究は酸化亜鉛薄膜を電子デバイスへ応用するため、RFマグネトロンスパッタで酸化亜鉛薄膜を成膜し、異なる基板上の酸化亜鉛薄膜評価を行うことにより結晶構造特性と光学特性による基板への影響を調べた。