2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.13 半導体光デバイス

[15a-P6-1~6] 3.13 半導体光デバイス

2016年9月15日(木) 09:30 〜 11:30 P6 (展示ホール)

09:30 〜 11:30

[15a-P6-6] 丸型レイアウトを用いたCMOS APDの暗電流特性の改善

〇(B)八賀 慧人1、秋山 正弘1 (1.長野高専)

キーワード:アバランシェフォトダイオード、シーモスイメージセンサ―

CMOS APDは高感度・高速な光センサとして研究がされている.これらの特性は高耐電圧であるほど高感度・高速応答特性を持つ.これまでに四角型のレイアウトを用いてCMOS APDを製作してきたが,レイアウトの角での電界集中による暗電流の増加が耐高電圧特性を低下させていた.そこで我々は高耐電圧特性を有するデバイスを製作するために角の無い丸型のレイアウトを採用しその暗電流特性を評価した.