2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.8 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[15p-A23-1~20] 15.8 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2016年9月15日(木) 13:15 〜 18:45 A23 (201B)

前田 貴弘(グローバルウェーハズ・ジャパン)、小島 拓人(明治大)、大野 裕(東北大)

15:45 〜 16:00

[15p-A23-10] FZシリコン結晶中の酸素濃度の測定

井上 直久6,1、大渕 真澄2、鵜野 浩行3、井上 敬子4、渡邉 香5、河村 裕一6 (1.東京農工大、2.ナノサイエンス、3.住重試験、4.東レリサーチ、5.システムズンジニアリング、6.大阪府大)

キーワード:FZシリコン結晶、酸素不純物濃度測定、赤外吸収

近年パワーデバイスにFZSi結晶も使われるようになり酸素濃度測定の高感度化が求められている。赤外吸収測定法のSEMI規格の推奨適用濃度範囲は1x1016cm-3以上で15乗台の測定法が必要である。SIMSは高濃度ドープに対してSEMI規格があり15乗台の測定が行われデバイス特性との関係が議論されている。放射化分析は赤外換算係数の決定に用いられている基礎的方法で、8x1014cm-3の測定実績があるが規格がない。三方法の測定と相互校正により全ての精度の向上のための検討を進めている。