[15p-B9-1~17] 13.3 絶縁膜技術

[15p-B9-12] X線光電子分光法による熱酸化SiO₂およびGeO₂薄膜の誘電関数評価

〇山本 泰史¹、大田 晃生¹、池田 弥央¹、牧原 克典¹、宮崎 誠一¹ (1.名大院工)

キーワード：絶縁膜