2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[16p-B1-1~13] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年9月16日(金) 13:30 〜 17:00 B1 (展示ホール内)

牧山 剛三(富士通研)

15:15 〜 15:30

[16p-B1-7] AlGaN系HFET型光センサのSiNxパッシベーション効果

牛田 彩希1、吉川 陽1,3、岩谷 素顕1、竹内 哲也1、上山 智1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大・理工、2.名古屋大・赤﨑記念研究センター、3.旭化成)

キーワード:窒化物半導体、光センサ

窒化物半導体系材料では表面電荷の問題が報告されており、また表面パッシベーションがデバイス性能に重要であることが報告されている。本グループではソーラーブラインドのAlGaN系HFET型光センサを実現しているが、光照射後に暗電流レベルまで下がるまでにsecオーダーの遅い緩和過程があることが確認された。これに対してSiNxを蒸着することでこの問題を解決し、応答速度の改善を実現した。