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歸山 敏之
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発表者・著者、共著者
2016年3月22日(火) 13:00 〜 15:00
H103 (本館)
一般セッション(口頭講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.4 薄膜新材料
[22p-H103-1~8] 6.4 薄膜新材料
14:45 〜 15:00
[22p-H103-8] 室温において封止スペース内に形成したSiO
2
接着層の封止性
〇
歸山 敏之
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