11:45 〜 12:00 △ [20a-S621-7] ArF液浸露光技術を用いた高効率Si細線グレーティングカプラ 〇蘇武 洋平1、鄭 錫煥1、田中 有1、森戸 健1 (1.光電子融合基盤技術研究所)