13:30 〜 15:30 [20p-P9-4] プラズマCVD SiO2/InAlN 界面へのAl2O3超薄膜層挿入の効果 〇(M1)清野 惇1、長谷崎 泰斗1、横田 直茂1、赤澤 正道1 (1.北大 量集センター)