[19a-P1-1~17] 7 ビーム応用（ポスター）

[19a-P1-10] ホローカソードを陰極に用いた大面積イオン源の開発

〇早川 太朗¹、永尾 友一¹、井内 裕¹ (1.日新イオン)

キーワード：シリコン、ドーピング、プラズマ

低温ポリシリコンTFTの大面積イオン注入装置用に、長寿妙なイオン源を目指して、ホローカソード型イオン源を開発している。試作した第4世代サイズのホローカソードイオン源では、PH_x⁺のビームで最大22.5mAが得ており、B⁺ビームの引出についても報告する予定である。