2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[19p-H103-1~21] 6.2 カーボン系薄膜

2016年3月19日(土) 13:15 〜 19:00 H103 (本館)

川原田 洋(早大)、寺地 徳之(物材機構)、河野 省三(早大)、徳田 規夫(金沢大)

15:00 〜 15:15

[19p-H103-8] 表面終端による浅いNVセンターの電荷状態

〇(B)加藤 かなみ1、山野 颯1、蔭浦 泰資1、瀬下 裕志1、稲葉 優文1、東又 格1、小池 悟大1、谷井 孝至1、磯谷 順一2、寺地 徳之3、小野田 忍4、春山 盛善5、加田 渉5、花泉 修5、川原田 洋1 (1.早稲田大学、2.筑波大学、3.物質・材料研究機構、4.日本原子力研究開発機構、5.群馬大学)

キーワード:NVセンター、ダイヤモンド

ダイヤモンド中のNVセンターは室温で安定であり、外部スピンの測定などに用いられている。表面付近(〜5nm)の浅いNVセンターは、感度が良いが電荷状態が不安定になってしまうという欠点があり、電荷状態の制御が必要である。今回は、ダイヤモンドの表面終端を変化させ、それにより浅いNVセンターの電荷状態の変化、安定性の変化を検討した