[19p-H137-1~17] 7.1 X線技術

[19p-H137-14] 【注目講演】半導体リソグラフィ用EUV光源開発の最新結果

〇高島 悠太¹、堀 司¹、植野 能史¹、阿部 保¹、薮 隆之¹、若菜 克彦¹、加藤 義章¹、柏崎 務¹、福田 修¹、藤巻 貴久¹、西村 祐一¹、竹中 怜¹、鈴木 徹¹、安藤 正彦¹、細田 裕計¹、宮下 光太郎¹、小山内 貴幸¹、斎藤 隆志¹、溝口 計¹ (1.(株)ギガフォトン)

キーワード：EUV光源、半導体リソグラフィ

ギガフォトン株式会社では、ターゲットへのレーザ照射により生成されるプラズマからEUV光を得るLPP (Laser Produced Plasma)方式のEUV光源装置の開発を行っている。
今回、実験機においてEUV 出力108W、稼働時間24時間を達成した。
本発表では、上記達成に寄与した装置の開発・技術改良について報告する。