2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[20a-S422-1~12] 13.5 デバイス/集積化技術

2016年3月20日(日) 09:00 〜 12:15 S422 (南4号館)

齋藤 真澄(東芝)

10:45 〜 11:00

[20a-S422-7] ナノワイヤ型不純物偏析ショットキー接合MOSFETにおけるワイヤ幅縮小効果

遠藤 清1、橋本 修一郎1、武井 康平1、ソン セイ1、張 旭1、徐 泰宇1、麻田 修平1、大場 俊輔1、松川 貴2、昌原 明植2、渡邉 孝信1 (1.早大理工、2.産総研)

キーワード:MOSFET、ナノワイヤ