2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:45 S423 (南4号館)

東 清一郎(広島大)、原 明人(東北学院大)

17:45 〜 18:00

[20p-S423-16] 中空構造SOI層を用いた低温転写技術におけるPET基板上高転写率の実現

水上 隆達1、中川 明俊2、平松 和樹2、竹島 真治2、山下 知徳1、東 清一郎2 (1.広大工、2.広大先端研)

キーワード:転写