[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20p-S423-16] 中空構造SOI層を用いた低温転写技術におけるPET基板上高転写率の実現

〇水上 隆達¹、中川 明俊²、平松 和樹²、竹島 真治²、山下 知徳¹、東 清一郎² (1.広大工、2.広大先端研)

キーワード：転写