2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[21a-W541-1~12] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 W541 (西5号館)

末光 哲也(東北大)

09:00 〜 09:15

[21a-W541-1] 自立GaN基板上p-n接合ダイオードにおける順方向電流集中領域の検討

林 賢太郎1、太田 博1、金田 直樹2、堀切 文正3、成田 好伸3、吉田 丈洋3、三島 友義1、中村 徹1 (1.法政大、2.クオンタムスプレッド、3.サイオクス)

キーワード:自立GaN基板、p-n接合ダイオード