[21p-H112-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[21p-H112-6] 急速熱アニールしたGaAs中のエピタキシャル窒素膜の輻射再結合寿命

〇小川 泰弘¹、原田 幸弘¹、海津 利行¹、喜多 隆¹ (1.神戸大院工)

キーワード：急速熱アニール、エピタキシャル窒素膜、時間分解PL