[22a-P5-1~18] 6.4 薄膜新材料

[22a-P5-9] 大気開放型CVD法によるNb:TiO₂/SUS304構造体の合成

〇菊田 剛史¹、小林 望¹、小松 啓志¹、齋藤 秀俊¹ (1.長岡技科大)

キーワード：酸化物、薄膜

TiO₂にNbをドープしたニオブドープ酸化チタン(Nb:TiO₂)は電子材料への応用が期待されている。本研究室では大気開放型大気開放型化学気相析出法(CVD)により、導電性Nb:TiO₂膜を合成している。そこで、大気開放型CVD法を使用し、低抵抗・高耐食性を有するNb:TiO₂/SUS304構造体の作製を試みた。