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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[22a-W611-1~14] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2016年3月22日(火) 09:00 〜 12:45 W611 (西6号館)

金載浩(産総研)

10:15 〜 10:30

△ [22a-W611-6] 【注目講演】プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の吸収端近傍X線吸収微細構造における高周波電力依存性

〇(M2)杉浦啓嗣¹、賈凌雲¹、佐藤俊一¹、近藤博基¹、石川健治¹、竹田圭吾¹、関根誠¹、堀勝¹ (1.名大院工)

キーワード：非晶質カーボン薄膜、NEXAFS、プラズマCVD

　　　