一般セッション(口頭講演)

[5p-S22-3~4] 8.8 Plasma Electronics English Session

2017年9月5日(火) 14:30 〜 15:00 S22 (パレスB)

酒井道(滋賀県立大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

14:30 〜 14:45

▲ [5p-S22-3] Evaluation of Nickel Self-Sputtering Yields by Molecular Dynamics Simulation

〇Nicolas Aini Mauchamp¹、 Michiro Isobe¹、 Satoshi Hamaguchi¹ (1.Osaka University)

14:45 〜 15:00

〇Fumiyoshi Tochikubo¹、 Yuya Yamazaki¹、 Takumi Hanawa¹、 Naoshi Kitakaze¹、 Naoki Shirai²、 Satoshi Uchida¹ (1.Tokyo Metropolitan Univ.、2.Hokkaido Univ.)

一般セッション(ポスター講演)

2017年9月8日(金) 09:30 〜 11:30 PB5 (国際センター2F)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

09:30 〜 11:30

〇(DC)ArnoldRey Burgos Gines¹、 Berverly Anne Suarez¹、 Motoi Wada¹ (1.Doshisha Univ.)

09:30 〜 11:30

〇Takafumi Yamada¹、 Makoto Matsui¹ (1.Shizuoka Univ.)

09:30 〜 11:30

〇Taojun Fang¹、 Kenji Yamaki¹、 Kazunori Koga¹、 Daisuke Yamashita¹、 Hyunwoong Seo¹、 Naho Itagaki¹、 Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu University)