[5a-S44-1~11] 【CS.9】7.1 X線技術と7.4 量子ビーム界面構造計測のコードシェアセッション

[5a-S44-6] フェムト秒極端紫外レーザー光による有機薄膜のアブレーションに関する研究

〇坂上 和之¹、石野 雅彦²、井谷 俊郎³、犬伏 雄一⁴、市丸 智⁵、大和田 成起⁶、小倉 拓人⁷、木下 博雄⁸、小柴 裕也⁹、今 亮⁴、Julius Santillan³、篠崎 夏美⁷、高橋 孝⁹、田村 賢紀⁷、Dinh-Thanh Hung²、錦野 将元²、西留 武宏⁹、羽多野 忠¹⁰、原 広行⁷、東口 武史⁷、山内 駿⁷、鷲尾 方一⁹ (1.早大高等研、2.量研関西研、3.EIDEC、4.JASRI、5.NTT-AT、6.RIKEN、7.宇大院工、8.兵庫県立大、9.早大理工研、10.東北大多元研)

キーワード：極端紫外光、アブレーション、有機薄膜

EUV光源に関する新たな提案として、フェムト秒領域のパルス性を有する光も候補として挙げられているが、その短パルス性によって様々な材料のアブ―ション閾値が低下する可能性が指摘されている。このような極短パルスのEUV光の利用に関して広く可能性を調査するために、SACLA BL-1から得られたフェムト秒の極短紫外光を用いて有機薄膜のアブレーションに関する計測・評価を行ったため、その結果及び今後の展望に関して報告する。