2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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[5p-PA1-1~82] 17 ナノカーボン(ポスター)

2017年9月5日(火) 13:30 〜 15:30 PA1 (国際センター1F)

13:30 〜 15:30

[5p-PA1-58] 金属合金膜を用いたSnS2リボンのエピタキシャル成長

林 賢二郎1、片岡 真紗子1、實宝 秀幸1、大淵 真理1、佐藤 信太郎1 (1.富士通研)

キーワード:二硫化スズ、合成

二次元原子膜において発現する特異な諸物性が観測されて以来、デバイス応用の観点から金属カルコゲナイドに注目が集まっている。これに伴い、金属カルコゲナイドの作製方法も盛んに研究されている。化学気相堆積法をはじめ、分子線エピタキシー法、薄膜硫化法など、これまでに二次元原子膜の薄膜合成法がいくつか報告されている。今回、我々は金属合金膜を用いた新たな手法によりスズと硫黄から成る二硫化スズ薄膜の合成を試みた。