[5p-S42-1~15] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[5p-S42-7] トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御

〇山本 洋揮¹、大谷 文章²、古澤 孝弘¹ (1.阪大産研、2.ICAT, 北大)

キーワード：電子線、自己組織化単分子膜、金属ナノ粒子

導体の微細化が進むにつれて、次世代リソグラフィ用レジスト材料に求められる要求が厳しくなってきている。それゆえ、トップダウン型微細加工技術の代表であるリソグラフィの限界が唱え始められ、トップダウンとボトムアップを融合した革新的な微細化加工技術が求められている。本研究では、トップダウンリソグラフィ技術の電子線リソグラフィと自己組織化単分子膜の自己組織を利用して金属ナノ粒子の位置制御を試みた。