2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[6p-A412-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

2017年9月6日(水) 13:15 〜 17:30 A412 (412)

小山 和博(デンソー)、嘉数 誠(佐賀大)、鹿田 真一(関西学院大)

16:00 〜 16:15

[6p-A412-11] ダイヤモンドMOSFETにおける反転層確認とFET動作実証

松本 翼1,2、加藤 宙光2、牧野 俊晴2、小倉 政彦2、竹内 大輔2、猪熊 孝夫1、徳田 規夫1,2、山崎 聡2 (1.金沢大、2.産総研)

キーワード:MOSFET、ダイヤモンド、ノーマリーオフ

反転層チャネルによるダイヤモンドMOSFETの動作に世界で初めて成功した。反転層チャネルMOSFETは、原理的にノーマリーオフ特性を示し、その簡易構造ゆえ、信頼性が高く、世界中で最も利用されているパワーデバイスである。本研究では、低濃度リンドープn型層成膜技術、低接触抵抗を実現した選択成長技術、高品質なMOS界面を実現したウェットアニール技術がキーとなっている。本発表では、各要素技術およびFET特性の紹介を行う。