The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.5 Ion beams

[6p-S41-1~10] 7.5 Ion beams

Wed. Sep 6, 2017 1:30 PM - 4:15 PM S41 (Conf. Room 1)

Satoshi Abo(Osaka Univ.), Toshio Seki(Kyoto Univ.)

3:15 PM - 3:30 PM

[6p-S41-7] Study of low temperature Cu – Cu bonding by GCIB irradiation

〇(M1)Shota Ikeda1, Noriaki Toyoda1 (1.Hyogo Univ.)

Keywords:surface activated bonding, Gas cluster ion beam

我々のグループでは数eV/atom程度の超低エネルギー照射が可能なガスクラスターイオンビーム(Gas Cluster Ion Beam :GCIB)を用い、表面活性化接合の実現を目指している。これまで、GCIBを用いることにより、表面平坦性の向上や表面酸化膜の除去により、各種基板の接合を報告してきた。本研究では、従来よりも平坦性に優れたスパッタCu薄膜に対してAr-GCIBを各種条件で照射し、接合温度の低温化を検討した。