[7a-C17-1~12] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[7a-C17-6] 非平衡酸窒素プラズマアシストPLD法によるZnO薄膜の製膜

〇金屋 良輔¹、桐谷 乃輔¹、吉村 武¹、芦田 淳¹、藤村 紀文¹ (1.阪府大院工)

キーワード：酸化亜鉛、PLD法、非平衡プラズマ

窒素を用いた、非平衡プラズマに、微量酸素を添加することによって、窒化力を有する活性種や、強い酸化力を有する活性種を大気圧近傍で発生させることができる。低圧ガス成長法である、PLD法を用いる場合、大気圧非平衡プラズマに特徴的な活性種のふるまいを理解する必要がある。講演ではそれ活性種のふるまいとともに、ZnO薄膜がそれらの活性種を用いて成長した場合の特性の詳細について議論する。