2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[7p-C16-1~18] 17.2 グラフェン

2017年9月7日(木) 13:45 〜 19:00 C16 (研修室1)

影島 愽之(島根大)、尾辻 泰一(東北大)

18:30 〜 18:45

[7p-C16-17] 酸素アニールがグラフェンCVD核発生に与える影響のin-situ観察

平良 隆信1、小幡 誠司2、斉木 幸一朗1,2 (1.東大院理、2.東大新領域)

キーワード:グラフェン、化学気相成長法、酸素アニール

大面積の単結晶グラフェンの作製を目的とした、Cu基板上のCVDではグラフェン核密度の低減が必要であり、酸素アニールはそのための効果的な前処理手法であると報告されている。本研究では、グラフェン成長に加えて酸素アニール過程を熱放射光学顕微法でin-situ観察し、核発生に与える影響を評価した。結果、熱放射像において酸素アニール中に輝点が大量に発生し、一部の輝点からの核発生が観察された。これらの相関について議論する。