16:00 〜 18:00 [15p-P15-16] スパッタエピタキシー法を用いたSiGe HEMT用S/D電極形成技術 〇出蔵 恭平1、本橋 叡1、大久保 克己1、広瀬 信光2、笠松 章史2、松井 敏明2、塚本 貴広1、須田 良幸1 (1.東京農工大院工、2.情報通信研究機構)