一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:00 〜 09:15
〇山本 高勇1、吉田 知司1、金谷 彗杜1、葛原 正明1 (1.福井大院)
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09:15 〜 09:30
〇數元 公博1、Romualdo A. Ferreyra1、鈴木 朝実良1、上田 大助1 (1.京都工繊大)
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09:30 〜 09:45
〇西平 貴則1、在田 直起1、杉本 浩平1,2、井本 良1、岡田 成仁1、只友 一行1 (1.山口大学院、2.宇部興産)
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09:45 〜 10:00
〇(PC)児玉 和樹1、Jan Kuzmik2、Alexandros Georgakilas3、葛原 正明1 (1.福井大学、2.Slovak Academy of Sciences、3.Crete Univ.)
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10:00 〜 10:15
〇(M1)林 賢太郎1、柘植 博史1、太田 博1、堀切 文正2、成田 好伸2、吉田 丈洋2、中村 徹1、三島 友義1 (1.法政大学、2.サイオクス)
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10:30 〜 10:45
〇林田 哲郎1、南條 拓真1、古川 彰彦1、山向 幹雄1 (1.三菱電機)
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10:45 〜 11:00
〇安藤 悠人1、小倉 昌也1、松下 淳矢1、宇佐美 茂佳1、田中 敦之2、永松 謙太郎2、久志本 真希1、出来 真斗2、新田 州吾2、本田 善央2、天野 浩1,2,3,4 (1.名大院工、2.名大未来材料・システム研究所、3.名大赤﨑記念研究センター、4.名大VBL)
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11:00 〜 11:15
〇加藤 直樹1、長田 大和2、上村 隆一郎2、伊東 建治3、分島 彰男1、江川 孝志1 (1.名工大院、2.ULVAC、3.金沢工大)
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11:15 〜 11:30
〇廣木 正伸1、熊倉 一英1 (1.NTT物性研)
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11:30 〜 11:45
〇森田 匠1、西村 拓也1、梁 剣波1、松原 萌子2、ダムリン マルワン2、西尾 佳高2、重川 直輝1 (1.大阪市大工、2.東洋アルミ)
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