[14p-316-1~16] 6.5 表面物理・真空

△ [14p-316-5] 水素ラジカルを用いたレジスト除去における除去速度の圧力依存性

〇(B)城井 智弘¹、山本 雅史¹、長岡 史郎¹、鹿間 共一¹、梅本 宏信²、大平 圭介³、西山 聖⁴、堀邊 英夫⁴ (1.香川高専、2.静大、3.北陸先端大、4.大阪市大)

キーワード：熱化、ラジカル、レジスト除去

レジストの除去には、一般に、有害な薬品が用いられており、環境負荷が課題となっている。我々はこれまで水素ラジカルを用いたレジスト除去方式を検討してきた。水素ラジカル生成雰囲気を減圧することで除去速度が向上することまでは分かっていた。今回、除去速度の圧力依存性を明らかにし、圧力の最適値を見出した。ラジカルの濃度律速とエネルギーの相乗効果をプロセス圧により制御することで、13倍の除去速度向上を達成した。