[14p-423-1~14] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[14p-423-12] 屈折率分布型レンズアレイを用いた投影露光リソグラフィにおける
露光フィールド内パターン形成特性の均一化

〇堀内 敏行¹、佐藤 貴紀¹、小林 宏史¹ (1.東京電機大)

キーワード：光リソグラフィ、屈折率分布型レンズアレイ、投影露光装置

屈折率分布型レンズアレイを用いた簡便安価な大パターン用投影露光装置を開発中である。要素レンズの個体差等によりパターン転写に分布が出るため、従来、主走査時にレンズアレイ方向にも往復副走査して均一性を改善していたが、不十分であった。今回、往復副走査の反転位置をレチクルのパターン領域外とし、フィールド内すべてが同じ露光条件で露光されるようにした結果、15µm L&Sの線幅均一性を大幅に改善できた。