[15a-301-8~8] 8.9 プラズマエレクトロニクス分科内招待講演

[15a-301-8] [8. プラズマエレクトロニクス　分科内招待講演] 計算化学を用いたプロセスプラズマ中における気相・表面反応解析

〇林 俊雄¹、石川 健治¹、関根 誠¹、堀 勝¹ (1.名古屋大)

キーワード：半導体プロセス、ドライプロセス、電子衝突解離

プロセスプラズマ中でガスがどのように解離し、表面でどのような反応が起っているかはまだ分かっていないことが多い。ここでは基本的なプロセスガスの解離過程について計算化学を用いて得られたことを中心に、分かっている範囲で概観してみる。表面反応については、計算化学で解析するのは大変難しいので限られた範囲で述べることにする。