[15p-412-1~18] 6.2 カーボン系薄膜

[15p-412-12] パルス放電プラズマCVDによるDLCとBN膜の作製

〇野田 三喜男¹、堀部 勲夫² (1.パルスプラズマ技研、2.ライテック研)

キーワード：薄膜、プラズマCVD、パルス放電

バイポーラのパルス電源を作製し，200℃以下の低温でプラズマCVDによりDLC膜の作製をおこなった。また，約500℃でのBNの成膜もおこなった。放電をモノポーラからバイポーラにして，表面に蓄積される電荷を消しながら成膜することにより，安定した放電を持続させることができた。また，アーキングやグローが消滅する現象も防ぐことができた。この方法により，硬度が約11 GPaのこれらの膜を形成することができた。