[17a-502-1~10] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[17a-502-10] 時間的･空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発

〇川原村 敏幸¹、鄧 太 江¹、刘 丽¹、E.K.C. ﾌﾟﾗﾃﾞｨｰﾌﾟ¹、龍田 宗孝¹、古田 守¹、須和 祐太¹、佐藤 翔太¹、中曽根 義晃¹、山沖 駿友¹、西 美咲¹、小林 勇亮¹、坂本 雅仁¹、ﾙﾄﾝｼﾞｬﾝ ﾋﾟﾓﾝﾊﾟﾝ¹ (1.高知工大)

キーワード：多元系機能膜、ミストCVD

多元系材料作製時の成膜速度や組成比の制御は薄膜作製技術が長年抱える問題である。発表者は、研究過程において、ミストCVDが本問題の解決手段と成り得ることに気がついた。つまり、ミスト(気相中に浮遊する液滴)の液と気の相界面で原子の移動が制約され、液滴間の原子の相互作用はほとんど皆無であり、この時間的・空間的な隔たりのため複合反応が抑制される。これを元に構想した実験系を構築し実証したので報告する。