Ferroelectric tunnel junctions with ultrathin Y2O3-doped HfO2

講演情報

一般セッション(口頭講演)

CS コードシェアセッション » CS.2 6.1強誘電体薄膜,13.3絶縁膜技術,13.5デバイス／集積化技術のコードシェア

2017年3月17日(金) 13:00 〜 17:00 304 (304)

齋藤真澄(東芝)、藤沢浩訓(兵庫県立大)

15:45 〜 16:00

〇(D)Tian Xuan¹、Shibayama Shigehisa¹、Xu Lun¹、Migita Shinji²、Toriumi Akira¹ (1.Univ. of Tokyo、2.AIST)

キーワード：HfO2, Ferroelectric, FTJ