2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[20p-234B-1~17] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

2018年9月20日(木) 13:15 〜 18:00 234B (234-2)

渡邉 孝信(早大)、山本 貴博(東理大)、宇治原 徹(名大)

16:30 〜 16:45

[20p-234B-12] 横型Siナノワイヤ熱電変換デバイスの熱エンジニアリング

〇(PC)富田 基裕1、熊田 剛大1、島 圭佑1、詹 天卓1、張 慧1,2、松川 貴3、松木 武雄1,3、渡邉 孝信1 (1.早大理工、2.群馬大学、3.産総研)

キーワード:半導体、熱電変換、熱エンジニアリング

SOI上にSiナノワイヤ(NW)を空中架橋せず直接置いた熱電発電素子について、基板厚や基板材料の熱伝導率によりSiNWにかかる温度差がどう変化するか明らかにするため、有限要素計算による熱解析を行い、等価回路モデルを作成した。基板の熱伝導率を低減することでNW温度差は上昇する。SiO2絶縁層は温度差維持のためにサブµmの膜厚が必須である。等価回路モデルによりこれらの傾向が再現可能である。