2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21a-222-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年9月21日(金) 09:00 〜 12:00 222 (222)

奥村 英之(京大)、坂間 弘(上智大)

10:15 〜 10:30

[21a-222-6] RFスパッタ法で作製したAZO透明導電膜特性における基板ラフネスの影響

濱田 海里1、石原 慶一1、奥村 英之1、小川 敬也1 (1.京大院エネ)

キーワード:透明導電膜、AZO

薄膜太陽電池用の透明導電膜において、その光吸収特性の高効率化のために、基板研磨という簡単な方法で優れた光拡散性を得ることを研究目的とした。その結果、基板研磨によって透明性、導電性を損なわず光拡散性を向上させることができ、またバンドギャップの変化が確認された。これらより、薄膜形成の基板を削って粗くするという簡単な方法で材料のバンドギャップを制御できる可能性が示唆された。