2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[21p-145-1~14] 13.3 絶縁膜技術

2018年9月21日(金) 13:15 〜 17:00 145 (レセプションホール)

山本 圭介(九大)、堀田 育志(兵庫県立大)

16:30 〜 16:45

[21p-145-13] 酸化セリウムを挿入したMIMキャパシタの充放電特性

佐々 康平1、久恒 和也1、星井 拓也1、宗田 伊理也1、若林 整1、筒井 一生1、角嶋 邦之1 (1.東工大工)

キーワード:酸化セリウム