2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[21p-232-1~18] 6.2 カーボン系薄膜

2018年9月21日(金) 13:15 〜 18:00 232 (232)

徳田 規夫(金沢大)、鈴木 真理子(コーンズテクノロジー)、竹内 大輔(産総研)、宮崎 久生(東芝)

16:15 〜 16:30

[21p-232-12] Hydrogen Terminated Diamond Interface Properties of Overlapping Gate MOSFET S imolation Using Non-charge Surface Model with Al2O3

REEM MOHAMMED ALHASANI1、Taichi Yabe1、Hiroshi Kawarada1 (1.Waseda University)

キーワード:Diamond, MOSFET, Overlapping Gate