2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21p-233-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年9月21日(金) 13:00 〜 16:45 233 (233)

角嶋 邦之(東工大)、呉 研(日大)

16:30 〜 16:45

[21p-233-14] 局所クリーン化ミニマル環境コントロールシステム-PLAD (II)

谷島 孝1,2、安井 政治1,2、三浦 典子2、クンプアン ソマワン1,2、前川 仁1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構)

キーワード:ミニマルファブ

現在までに、ミニマルファブの前室システムであるPLADのクリーン化とガス遮断を行う、差圧制御・気体循環システムを開発してきた。今回、このシステムの実用化を進めるため、実際にデバイス製造プロセスで使用されているミニマル装置に、本システムが一体化されたPLADを搭載し、従来評価していたクリーン化とともに、ガス遮断性能の確認を行い良好な結果を得た。