11:30 〜 11:45 △ [20a-C204-10] 大気圧プラズマCVDによるSiOXゲート絶縁膜の低温・高能率形成プロセスの研究 〇木元 雄一朗1、寺脇 功司1、山﨑 啓史1、前川 健史1、大参 宏昌1、垣内 弘章1、安武 潔1 (1.阪大院工)