2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17a-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月17日(土) 09:30 〜 12:30 C101 (52-101)

野口 隆(琉球大)

11:30 〜 11:45

[17a-C101-8] Effect of Overlapped Scan on CLC (100) Crystal Growth

Sasaki Nobuo1,2、〇(M2)razali arif muhammad2、Uraoka Yukiharu2 (1.Sasaki Consulting、2.NAIST)

キーワード:CLC, Laser Crystallization, Poly-Si, TFT

In the CLC crystallization having the (100) textures, the effect of cross scan was investigated. Grain boundary generation at the cross point was observed.