[17p-B203-1~13] 3.2 材料・機器光学

[17p-B203-9] 偏光反応性材料の３次元光配向に向けた光渦同軸干渉光の極小集光特性

〇坂本 盛嗣¹、野田 浩平¹、佐々木 友之¹、川月 喜弘²、小野 浩司¹ (1.長岡技科大、2.兵庫県立大)

キーワード：光渦、光配向

偏光反応性材料の光配向は、照射する偏光に対する軸選択的な分子再配列により、光学異方性の空間分布を後天的に制御可能な技術として広く利用されている。本研究では、トポロジカル光波が極小集光場に形成する光電場の３次元光配向応用の可能性を系統的に明らかにすることを目的とする。今回我々は、その中でも光渦同軸干渉光に着目して数値シミュレーションによる電場解析を行ったので報告する。