[19p-P6-1~17] 6.4 薄膜新材料

[19p-P6-1] ボンバード蒸着源による低欠陥・低光学吸収フッ化物蒸着

〇上岡 昌典¹、菅原 康司¹、谷口 明¹、高島 徹¹ (1.日本電子株式会社)

キーワード：光学薄膜、フッ化物、欠陥

電子ビーム蒸着源を利用したフッ化物系蒸着材料の成膜において、突沸発生、蒸発粒子の解離や反射電子による光学膜の光学吸収の問題が潜在化し対策技術が求められていた。この度、加熱制御性に優れた電子ビームを利用し、電子ビームを直接蒸着材料に照射しない間接加熱法を採用したボンバード蒸着源を新たに開発した。ボンバード蒸着源が電子ビーム蒸着源の潜在的問題の解決手段となり得るかを評価したので以下報告する。