[20a-A402-1~11] 3.9 テラヘルツ全般

[20a-A402-11] 高強度テラヘルツ縦電場パルスの発生

〇的場 みづほ¹、根本 夏紀¹、神田 夏輝^2,3、小西 邦昭¹、湯本 潤司¹、五神 真¹ (1.東大院理、2.理研、3.東大工)

キーワード：テラヘルツ、シリンドリカルベクトルビーム、縦電場

グラフェン等の2次元系物質は，面直方向への電場・磁場印加による大きな物性変化が予想されており，その超高速制御には，テラヘルツ領域におけるシリンドリカルベクトルビームや一次のエルミートガウス(HG)ビームを集光した際に生じる縦電場・縦磁場が有用である。今回我々は，直線偏光テラヘルツ波をHGビームへ広帯域にモード変換する手法を開発し，得られたHG₀₁ビームから高強度なテラヘルツ縦電場を発生させた。