2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20p-B401-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年3月20日(火) 13:00 〜 16:15 B401 (53-401)

山口 徹(NTT)、谷口 淳(東理大)

15:45 〜 16:00

[20p-B401-11] ナノインプリントにおけるレジスト収縮による形状予測とその補正

飯田 達矢1、〇渡辺 謙太1、安田 雅昭1、川田 博昭1、平井 義彦1 (1.大阪府立大 院 工)

キーワード:ナノインプリントリソグラフィ、モールド、収縮