10:15 〜 10:30 [20a-C310-6] 水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化タンタル薄膜の作製 〇伊藤 勇佑1、阿部 良夫1、川村 みどり1、金 敬鎬1、木場 隆之1 (1.北見工大)